EFRE-Förderung für das Mikrosystemtechnik-Labor
Just-in-time zum Jahresende freuen wir uns über die Bewilligung einer Förderung aus dem europäischen Strukturfonds zur Beschaffung neuer Geräte für das Mikrosystemtechnik-Labor. Dies ist ein wichtiger Schritt in der bedarfsgerechten Modernisierung und Konsolidierung des Labors entsprechend unseren Forschungsthemen und unserer Innovationsphilosophie und erleichtert die größten materiellen Sorgen, unser Forschungsprogramm umsetzen zu können.
Mit einer neuen modularen Beschichtungsanlage mit unterschiedlichen Sputter- und Verdampfungsquellen können wir ein breites Spektrum an Dielektrika und Metallen in flexibler Zusammensetzung über ein breites Spektrum an Schichtdicken ressourcenschonend abscheiden. Ergänzt wird dies durch eine Parylen (Hochleistungspolymer)-Beschichtungsanlage zur Erzeugung von Isolationsschichten, ultradünnen Diffusionsbarrieren und mechanischen Schutzschichten. Zur Strukturierung im µm-Bereich werden wir unsere Laser-Strukturierungsanlage um eine Wellenlänge zur materialselektiven Laserablation ergänzen, und eine neue 5-Achs Mikrofräse dient zur Herstellung von mechanischen und fluidischen Strukturen im sub-mm Bereich, bzw. zur Herstellung entsprechender Abformungsformen. In der Charakterisierung werden wir unser modulares, integriertes Oberflächenprofilometer um ein Laser-Doppler Vibrometer zur dynamischen Oberflächenvermessung im Ultraschall-Bereich ergänzen können. Zu guter Letzt dient ein neuer Plasmaofen mit reduzierendem und oxidierendem Plasma der Oberflächenreinigung und -aktivierung, z.B. zum Plasmabonden.
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